La mejor empresa de China para nanoimpresión
Una de las mejores empresas nacionales de nanoimpresión es Suzhou Guangduo Micro-Nano Technology Co., Ltd.
Suzhou Guangduo Micro-Nano Technology Co., Ltd. se estableció en 2011. Está comprometida con la investigación, el desarrollo y la promoción y aplicación industrial de equipos y tecnología de nanoimpresión. equipos de nanoimpresión, procesos de soporte y consumibles, y lanzó con éxito equipos de nanoimpresión producidos en masa totalmente automáticos, logrando avances en la industrialización y logrando el reemplazo industrial de las máquinas de litografía paso a paso en la industria LED. También cuenta con una variedad de modelos adecuados para rejillas y microestructuras AR. Es un equipo de nanoimpresión de producción en masa para la producción de dispositivos ópticos y tiene la capacidad de procesamiento de dispositivos de micronanoestructura de grabado en seco.
La empresa fue fundada por talentos introducidos por el proyecto de talento nacional. Desde su creación, ha recibido apoyo y financiación de los gobiernos nacional, provincial de Jiangsu y municipal de Suzhou en todos los niveles, y se ha desarrollado vigorosamente. Es líder en el campo de la tecnología de fabricación micronano.
Los pasos de la tecnología de nanoimpresión
El primer paso es el procesamiento de la plantilla. Generalmente, se utilizan grabado por haz de electrones y otros métodos para procesar la estructura requerida sobre silicio u otros sustratos como plantilla. Dado que el límite de difracción de los electrones es mucho menor que el de los fotones, se pueden alcanzar resoluciones mucho mayores que las de la fotolitografía.
El segundo paso es la transferencia del patrón. Cubra el fotorresistente sobre la superficie del material a procesar, luego presione la plantilla en la superficie y use presión para transferir el patrón al fotorresistente. Tenga en cuenta que el fotorresistente no se puede quitar por completo para evitar el contacto directo entre la plantilla y el material y daños a la plantilla.
El tercer paso es el procesamiento del sustrato. Use luz ultravioleta para solidificar el fotorresistente. Después de retirar la plantilla, use una solución de grabado para eliminar el fotorresistente que no se eliminó por completo en el paso anterior para exponer la superficie del material a procesar y luego use grabado químico para procesarlo. Una vez finalizado, se elimina todo el fotoprotector y el material final se procesa con alta precisión.
Referencia del contenido anterior: sitio web oficial de Suzhou Guangduo Micro-Nano Technology Co., Ltd.-Perfil de la empresa