La diferencia entre máquina de fotolitografía y fotorresistente

La principal diferencia entre los dos es que tienen diferentes propiedades, escenarios de aplicación y procesos de producción. Las diferencias específicas son las siguientes:

1. Propiedades: Photoresist es un líquido mixto fotosensible. Consiste en fotoiniciador, resina fotorresistente, monómero, disolvente y otros aditivos.

Una máquina de fotolitografía es un dispositivo mecánico que tiene como función aplicar fotorresistente a la oblea de silicio y realizar el proceso de exposición y revelado.

2. Escenarios de aplicación: Photoresist se utiliza principalmente en el proceso de fotolitografía, y su rendimiento y calidad juegan un papel clave en la precisión del proceso y el rendimiento del chip. La máquina de litografía es el equipo principal para la fabricación de chips.

A través de una serie de métodos de control de forma y energía de la fuente de luz, el haz se transmite a través de una máscara con un diagrama de circuito, y varios errores ópticos se compensan a través de la lente del objetivo, y el diagrama de circuito se reduce y mapeado en la oblea de silicio.

3. Proceso de fabricación: El proceso de fabricación del fotorresistente es principalmente un método de síntesis química, que requiere una serie de reacciones químicas para obtener los materiales requeridos.

El proceso de fabricación de máquinas de fotolitografía es principalmente un proceso de procesamiento mecánico, que requiere un procesamiento mecánico preciso y un control electrónico.