¿Cuál es la diferencia entre fotorresistente y máquina de fotolitografía?

Diferencias en funciones, diferencias en procesos de fabricación, etc.

1. Diferencia de función: Photoresist es un líquido mixto fotosensible, que consta de fotoiniciador, resina fotorresistente, monómero, disolvente y otros aditivos. La máquina de fotolitografía es uno de los equipos principales para la fabricación de chips. Su función es proyectar luz sobre la superficie de la oblea a través del sistema óptico para formar un patrón específico.

2. Diferencia en el proceso de fabricación: El proceso de fabricación del fotorresistente es relativamente simple. Simplemente aplique el fotorresistente sobre la superficie de la oblea e ilumínela con luz. El proceso de fabricación de las máquinas de fotolitografía es más complejo. Las máquinas de litografía requieren el diseño y fabricación de múltiples componentes, como sistemas ópticos, estructuras mecánicas y sistemas de control, para garantizar que puedan trabajar juntos para lograr un proceso de litografía de alta precisión.